活性炭吸附装修异味的原理 活性炭真能吸甲醛吗

活性炭是经过特殊加工的具有较强吸附能力的一类特殊物质。活性炭材料因其结构的特殊性，表面分子间受到的作用力往往不能抵消，所以能量高，当与其它物质接触会发生吸附。这种吸附具有物理吸附，范氏力，化学吸附（碳与某些物质形成化学键）等多种形式。与吸附过程相反，由于分子的热运动，也存在脱附现象。 我们可以利用活性炭吸附原理，在诸多方面予以应用，如防毒面具中装有活性炭，可吸附有毒有害气体，还可以用活性炭脱色。净水器中净化这一步，是通过活性炭吸附除去有害有机物质及重金属离子这一过程来完成的。

活性炭吸附法具体概念是什么

活性炭吸附法是利用多孔性的活性炭，使水中一种或多种物质被吸附在活性炭表面而去除的方法，去除对象包括溶解性的有机物质，合成洗涤剂、微生物、病毒和一定量的重金属，并能够脱色、除臭。

活性炭、磺化煤、沸石、焦炭等都是水处理常用的吸附剂，活性炭经过活化后碳晶格形成形状和大小不一的发达细孔，大大增加比表面积，提高吸附能力。活性炭的细孔有效半径一般为1-10000nm，小孔半径在2nm以下，过渡孔半径一般为2-100nm，大孔半径为100-10000nm.小孔容积一般为0.15-0.90mL/g，过渡孔面积一般为0.02-0.10mL/g；大孔容积一般为0.2-0.5mL/g.

活性炭不同细孔的吸附作用

大孔：为吸附质的扩散提供通道，使吸附质通过此通道扩散到过渡孔和小孔中去，影响吸附质的扩散。

过渡孔：为吸附质的扩散提供通道，促使吸附质通过它扩散到小孔中去而影响吸附质的扩散速度。

小孔：表面积占比表面积的95%以上，吸附量主要由小孔支配。

活性炭吸附类型

活性炭吸附类型据固体外表吸附力的不一样，吸附可分为物理吸附、化学吸附同离子交流吸附等三种类型：

1.物理吸附

吸附剂和吸附质（溶质）经过分子力发作的吸附称为物理吸附。这是最常见的一种吸附表象，它的特点是被吸附物的分子不是附着在吸附剂外表固定点上，而稍能在介面上作自在挪动。因为吸附是分子力导致的，吸附热较小，物理吸附不需求活化能，在低温条件下即可进行。这种吸附是可逆的，在吸附的一起被吸附的分子由子热运动还会脱离固体外表，这种表象称为解吸。物理吸附可构成单分子吸附层或多分子吸附层。因为分子间力是普遍存在的，所以一种吸附剂可吸附多种物质，但因为吸附质（溶质）性质不一样，吸附的量也有所不一样。这种吸附表象与吸附剂的外表积、细孔散布有密切关系。

2.化学吸附

吸附剂和吸附质（溶质）之间靠化学键的效果，发作化学反应，使吸附剂与吸附质（溶质）之间结实的联络在一起。因为化学反应需求很多的活化能，通常需求在较高温度下进行，吸附热较大。化学吸附是一种选择性吸附，即一种吸附剂只对某种或特定几种物质有吸附效果。因为化学吸附是靠吸附剂和吸附质直接的化学键力进行的，所以化学吸附仅能构成单分于层，吸附是比较稳定的，不易解吸，这种吸附与吸附剂的外表化学性质直接有关，与吸附质的化学性质有关。

3.交流吸附

一种物质的离子因为静电引力集聚在吸附剂外表的带电点上，在吸附过程中，伴随着等量离子的交流，即每吸附一个吸附质（溶质）的离子。吸附剂一起要放出一个等量的离子，即离子交流。离子的电荷是交流吸附的决定因素。若是吸附质（溶质）的浓度一样，离子所带的电荷越多，它在吸附剂外表上的反电荷点上的吸附力越强。关于电荷一样的离子，水化半径越小，越能更严密地接近于吸附点，有利于吸附。 物理吸附、化学吸赞同离子交流吸附往往一起存在，在活性炭吸附法水处理过程中，使用3种吸附的归纳效果到达去掉污染物的意图。关于不一样的吸附物质，3种吸附所起的效果不一样。

水处理用活性炭吸附装置有哪些形式

水处理用活性炭吸附装置主要有固定床、移动床和流动床三种形式。

（1）固定床可以一个塔或几个塔并联或是串联，操作可间歇或切换作用。为防止装置滤层的阻塞，要定期反冲洗，在活性炭上部设置表面冲洗设备。

（2）移动床固液两相吸附时，一般吸附速度较慢，采用固定床一般要有较高的活性炭层，即吸附带较长，而在移动床吸附塔内，吸附已经饱和的活性炭间歇地从塔底部取出，每天1～2次，或每星期一次。取出的饱和炭量约为吸附塔内总炭量的5%～10%。所要处理的水自塔底向上流动，从塔顶部出水管排出，因此可以充分利用活性炭的吸附容量，移动床吸附塔的水头损失较小，由于水从塔底进入，水中夹带的悬浮物（给水处理悬浮物应小于1mg/L），随着饱和炭的间歇卸出，不需反冲洗设备，吸附塔内的炭层不能上下混合，要自上而下地有次序地移动。当卸出饱和炭后，再从塔顶加入等量新炭或再生炭。

（3）流化床流化床目前使用较少，由于流化床内活性炭粒径较小，在塔内上层的活性炭与从塔底进入的水充分搅动，使炭与水接触的表面积增大，因此可以用少量的炭处理较多的水，不需反冲洗，预处理要求低，可以连续运转。充填的活性炭的粒度分布决定静止层及流化层高度，另外运行操作要求较高。

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