简述碳化硅陶瓷的反应烧结和无压烧结工艺
反应烧结和无压烧结是生产碳化硅陶瓷的两种主要工艺。其中无压烧结制作过程中要加入烧结助剂,一般是在2100度下,自然收缩而成的碳化硅制品。具有较好的耐酸、耐碱性能。无压烧结制品的密实度在3.08-3.15之间。
而反应烧结是在较低的温度下,使游离硅渗透到碳化硅中。在致密过程中反应烧结的尺寸变化较小,可以制得尺寸精确的产品。一般反应烧结制品的密实度在2.97-3.05之间。反应烧结碳化硅陶瓷生产成本低,价格低。使用温度1350度以下。
这两种烧结工艺制品的反应体积密度、硬度、抗压强度等与产品技术参数不同,在不同的酸碱度、温度等情况下,使用的时间不同。因此,在选择时还需要根据产品使用环境等综合考虑。
总的来说,碳化硅陶瓷具有低热膨胀系数和高导热系数,在加热或冷却过程中受到的热应力小,因此能够耐高温,同时它的硬度和韧性也很高。主要产品分为窑炉窑具、节能环保脱硫喷嘴、耐磨损耐腐蚀机械零部件、防护陶瓷制品等系列。
无论哪种烧结工艺制程的碳化硅陶瓷都具有强度高、硬度高、耐腐蚀、耐磨损、耐高温、抗氧化性强。耐急冷急热和抗高温蠕变性等优点。
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